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IBM y Samsung anuncian un gran avance en el diseño de semiconductores.

ALBANY, NY, 14 de diciembre de 2021.- Hoy, IBM (NYSE: IBM) y Samsung Electronics anunciaron un avance en el diseño de semiconductores utilizando una nueva arquitectura de transistor vertical que demuestra una ruta para escalar más allá del nanosheet y tiene el potencial de reducir el uso de energía en un 85%, en comparación con los transistores de efecto de campo de aleta (finFET, por su nombre en inglés)1. La escasez mundial de semiconductores ha destacado el papel fundamental de la inversión en investigación y desarrollo de chips y su importancia en todo, desde la informática, los electrodomésticos, los dispositivos de comunicación, los sistemas de transporte y hasta la infraestructura crítica.

La innovación en semiconductores de las dos compañías se llevó a cabo desde el Albany Nanotech Complex, en Nueva York, EE.UU., donde los investigadores trabajan en estrecha colaboración con socios del sector público y privado para ampliar los límites del escalado lógico y las capacidades de los semiconductores.

Este enfoque colaborativo de la innovación convierte al Albany Nanotech Complex en un ecosistema líder a nivel mundial para la investigación de semiconductores y crea una sólida línea de innovación, lo que ayuda a abordar las demandas de fabricación y a acelerar el crecimiento de la industria global de chips.

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